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  HGMW-75導(dǎo)波式微波雷達(dá)物位計
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產(chǎn)品說明
立管和旁通管的使用可以解決攪拌扇葉對導(dǎo)波探測組件造成的影響經(jīng)常見于化工反應(yīng)容器,比如石化行業(yè)。 當(dāng)然在這種測量環(huán)境中,導(dǎo)波雷達(dá)的測量具有很多的優(yōu)勢。 立管和旁通管能夠增強(qiáng)導(dǎo)波雷達(dá)接收信號的強(qiáng)度。 旁通管的側(cè)面連接開口,罐內(nèi)沉淀物或腐蝕性物質(zhì)對測量結(jié)果都不會有影響。 另外產(chǎn)品能夠在高達(dá)400℃的環(huán)境及40MP壓力下進(jìn)行測量,即使是標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品,也能夠在150℃的環(huán)境下進(jìn)行測量。
產(chǎn)品圖片
詳細(xì)參數(shù)
應(yīng) 用 高溫高壓液體測量
最大量程 30米
精 確 度 ± 3mm
過程連接 螺紋 G1?A/螺紋 1?NPT
傳感器材質(zhì) 不銹鋼316/陶瓷
過程溫度 石墨陶瓷:-196…280℃/石墨陶瓷:-196…400℃/石墨陶瓷:-196…450℃
過程壓力 (真空...40)MPa
輸出信號 (4...20)mA/HART
電 源 兩線制:DC24V/四線制:DC24V/AC220V
對比非同類產(chǎn)品的產(chǎn)品優(yōu)勢
  1. 相對于超聲波原理儀表而言,導(dǎo)波式微波雷達(dá)物位計不受壓力變化、真空、溫度變化、惰性氣體、煙塵、 蒸汽等環(huán)境影響,測量結(jié)果穩(wěn)定可靠。可以在最高400℃,最大壓力40Mpa環(huán)境下工作。
  2. 相對于非接觸方式雷達(dá)物位計而言,導(dǎo)波式微波雷達(dá)物位計電磁波信號沿著探測組件(探桿或探測纜繩)進(jìn)行傳播, 所以受到測量環(huán)境中水蒸氣和粉塵等因素的影響較小。 沿著探測組件進(jìn)行傳播的微波信號對于波動的界面仍然具有同樣的反射性能, 所以幾乎不受物料波動影響。接觸性測量方式使得信號反射能力更強(qiáng),可以測量介電常數(shù)更低的介質(zhì)。 接觸測量方式使得信號反射更可靠,從而不會出現(xiàn)失波現(xiàn)象。
  3. 相對于電容式物位計而言,無需空罐滿罐標(biāo)定,直接使用,現(xiàn)場操作簡便。 測量結(jié)果不受介電常數(shù)變化影響。 當(dāng)被測介質(zhì)是成分不清楚或者是成分比例隨時改變的混合物時,也能夠進(jìn)行可靠測量。
  4. 相對于磁翻板、磁致伸縮、重錘、鋼帶或浮球等液位計而言, 導(dǎo)波式微波雷達(dá)物位計不依賴機(jī)械運動進(jìn)行測量,沒有活動部件,可靠性高,壽命長。
對比同類產(chǎn)品的產(chǎn)品優(yōu)勢
  1. 儀表采用等效采樣脈沖測距專利技術(shù),提高了信號的分辨率和靈敏度, 使儀表具有高精度、測量靈敏、刷新速度快等優(yōu)勢。
  2. 儀表液晶操作單元為128*64圖形點陣液晶,支持全中文菜單、 波形顯示等復(fù)雜操作功能。降低現(xiàn)場儀表操作難度和維護(hù)工作量。
  3. 液晶顯示單元可以外接25米,從而構(gòu)成罐旁操作單元。降低大型罐體、高溫、 高壓、有毒等高危險區(qū)域儀表日常巡檢工作的風(fēng)險和勞動強(qiáng)度。
  4. 國內(nèi)首家推出基于HART通訊的遠(yuǎn)程操作單元,可以外接1000米, 從而彌補(bǔ)傳統(tǒng)罐旁顯示操作單元在通訊距離上的不足。
  5. 國內(nèi)首家推出具有波形顯示功能雷達(dá)專用的HART手操器, 通過使用雷達(dá)專用的HART手操器可以實現(xiàn)在中控室直接觀察雷達(dá)波形并進(jìn)行調(diào)試, 大大降低現(xiàn)場調(diào)試的危險和勞動強(qiáng)度。
  6. 國內(nèi)首家推出具有無線通訊功能導(dǎo)波式微波雷達(dá)物位計, 可支持GPRS無線傳輸和CMesh多跳自組織無線組網(wǎng)傳輸。 是物位測量接入物聯(lián)網(wǎng)的首選產(chǎn)品。
測量原理
HGMW7X系列導(dǎo)波式微波雷達(dá)物位計是基于時間行程原理的電磁波測距系統(tǒng)。 儀表探頭發(fā)出的1GHz的微功率電磁波信號沿著探測組件(探桿或探測纜繩)以光速進(jìn)行傳播。 當(dāng)電磁波接觸到被測物質(zhì)表面時,由于介電常數(shù)發(fā)生突變,電磁波被反射回來。 反射回來的電磁波沿著探測組件傳播,并返回到儀表探頭。 電磁波的發(fā)射與接收的時間間隔與儀表探頭到被測介質(zhì)的距離成正比, 由此能夠計算出儀表探頭到被測介質(zhì)表面的距離。

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